HMDS真空烘箱，HMDS處理系統(tǒng)中HMDS泄漏處理方法

1.在污染區(qū)尚未*清理干凈前，限制人員接近該區(qū)。
2.確定清理工作是由受過訓練的人員負責。
3.穿戴適當?shù)膫€人防護裝備.
4.對該區(qū)域進行通風換氣。
環(huán)境注意事項：抽氣通風，移走撤離關閉所有可能之熱源、火星、火花與火焰等之引火源與點火裝置，若大量泄漏時先將泄漏區(qū)圍堵避免擴散。
HMDS清理方法：
少量泄漏時：以惰性吸收/吸附材料吸取泄漏物。
大量泄漏時：將泄漏區(qū)域圍堵，小心地道引將泄漏物抽取回收集桶。

雋思HMDS真空烘箱，HMDS處理系統(tǒng)主要用途：

  在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

HMDS真空烘箱，HMDS處理系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：

電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率：2200W

溫度范圍：RT+10℃-250℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動度：±1℃

達到真空度：133Pa（1torr）

工作室尺寸（mm）：450*450*450,550*550*350（可定做）

雋思HMDS真空烘箱，上海雋思HMDS處理系統(tǒng)特點：

1、預處理性能更好

2、處理更加均勻

3、效率高

4、更加節(jié)省藥液

5、更加環(huán)保和安全   

6、高安全保護性能

a.低液報警裝置 

b.可自動吸取HMDS功能， 

c.可自動添加HMDS功能， 

d.HMDS藥液泄漏報警功能，

HMDS安全處置與儲存方法：
處置：HMDS易產(chǎn)生靜電，搬運時將所有設備與容器適當接地，并須固定牢固，避免吸入蒸氣及接觸眼睛與皮膚。
存儲：置于陰涼、干燥、通風處、緊蓋容器，遠離各種可能之熱源、火星、火花與火焰等之引火源與點火裝置，避免吸入蒸氣及接觸眼睛與皮膚。